主讲人：Yasin Ekinci 研究员

时 间：2019年10月24日（星期四）上午10:00

地 点：当代楼高等研究院报告厅530

题 目：EUV lithography and metrology for more Moore

报告人简介：

Yasin Ekinci是保罗谢尔研究所(Paul Scherrer Institute, PSI)微纳米技术实验室的负责人以及Advanced Lithography and Metrology group的负责人。他于2003年在德国哥廷根的Max-Planck Institute for Dynamics and Self-Organization获得博士学位。2004年，他加入Paul Scherrer研究所担任博士后研究员。随后在2006年至2012年之间，他在苏黎世联邦理工学院材料系进行博士后的研究，随后成为研究员。自2009年以来，他在PSI开展了与纳米科学和技术相关的课题研究，包括EUV光刻、抗蚀材料、无透镜成像、等离子体、半导体纳米结构和纳米流体等。他已经发表了200篇论文和5项专利。他是国际光学工程学会(Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers，SPIE)的会士。

Dr. Yasin Ekinci：

Yasin Ekinciis acting head of the Laboratory for Micro and Nanotechnology and head of the Advanced Lithography and Metrology group at Paul Scherrer Institute. He obtained his PhD in Max-Planck Institute for Dynamics and Self-Organization, Göttingen, Germany in 2003. In 2004, he joined Paul Scherrer Institute as a postdoctoral researcher. Between 2006 and 2012 he worked as a postdoctoral researcher and subsequently as a senior scientist and a lecturer in Department of Materials at ETH Zürich. He is at PSI since 2009 working on various topics of nanoscience and technology, including EUV lithography, resist materials, lensless imaging, plasmonics, semiconductor nanostructures, and nanofluidics. He is author/co-author of about 200 papers and 5 patent applications. He is a fellow of SPIE.

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10月24日，瑞士科学家Yasin Ekinci教授应邀做客高等研究院长江学术论坛第87讲，作题为“EUV lithography and metrology for more Moore”的学术报告。

Yasin Ekinci教授介绍了光刻的起源并提出目前最具前景的极紫外光刻（EUV光刻）（以波长为13.5 nm的极紫外光作为光源的光刻技术），解析了其光刻结构和原理，提出了“读”和“写”的关系。Yasin Ekinci教授通过“XIL-II: EUV interference lithography @SLS”的实例进一步讲解其参数、结构以及面临的挑战。随后，Yasin Ekinci教授围绕如何在纳米级提高并行读取进行一系列的探讨，最终得出结论：极紫外光刻的底部（波长在10 nm以下）仍然有大量的探索空间。

在报告结束后的交流中，老师同学们积极发言，就相关问题与Yasin Ekinci教授展开了深入的讨论。